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低溫制冷循環(huán)水溫機

簡要描述：低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備：生物制藥。科學實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2023-11-17
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低溫恒溫槽制冷循環(huán)器低溫制冷循環(huán)器超低溫制冷循環(huán)器

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詳細介紹

品牌	冠特制冷	工作方式	風冷、水冷
恒溫波動度	±0.3℃℃	恒溫范圍	-150℃-350℃℃
冷卻方式	水冷式	價格區(qū)間	1萬-2萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	儀器種類	一體式
應用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,化工,石油,能源,制藥

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低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備：生物制藥。科學實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫制冷循環(huán)水溫機技術(shù)參數(shù)：

型號	℃ 溫度范圍	L/min bar 循環(huán)泵		電源	（kw） at （℃）制冷量			加注冷媒
型號	℃ 溫度范圍	L/min bar 循環(huán)泵		電源	-20	-35	-55	加注冷媒
DW-418	—40～30	20	0.7	220/380V 50/60HZ	1.2	0.4		R404A R407C
DW-440	—40～30	20	0.7		2.7	0.75
DW-462	—40～30	35	1		3.8	1.1
DW-490	—40～30	35	1		5.5	1.5
DW-4A1	—40～30	35	1		7	2.1
DW-4A2	—40～30	80	1.5		14	4
DW-618	—60～—20	20	0.7			0.6	0.4	R404A R23 R13
DW-630	—60～—20	20	0.7			1.1	0.6
DW-662	—60～—20	35	1			2	1.15
DW-6A1	—60～—20	35	1			3.5	2
DW-6A2	—60～—20	75	1.5			13	5., 8

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